डेंसो इंजेक्टर स्पेयर पार्ट्स के लिए उच्च गुणवत्ता वाली नई कॉमन रेल वाल्व प्लेट 10# ऑरिफिस प्लेट वाल्व

छिद्र वाल्व प्लेट एक उपकरण है जिसका उपयोग प्रवाह दर को मापने, दबाव को कम करने या प्रवाह को प्रतिबंधित करने के लिए किया जाता है (बाद के दो मामलों में इसे अक्सर प्रतिबंध प्लेट कहा जाता है)। ऑरिफिस वाल्व प्लेट एक पतली प्लेट होती है जिसमें एक छेद होता है, जिसे आमतौर पर एक पाइप में रखा जाता है। जब कोई तरल पदार्थ (चाहे तरल हो या गैसीय) छिद्र से गुजरता है, तो इसका दबाव छिद्र के थोड़ा ऊपर की ओर बनता है, लेकिन जैसे ही तरल पदार्थ को छेद से गुजरने के लिए एकत्रित होने के लिए मजबूर किया जाता है, वेग बढ़ जाता है और द्रव का दबाव कम हो जाता है। छिद्र से थोड़ा नीचे की ओर प्रवाह अपने अधिकतम अभिसरण बिंदु, वेना संकुचन तक पहुँच जाता है जहाँ वेग अपने अधिकतम और दबाव अपने न्यूनतम तक पहुँच जाता है। उससे आगे, प्रवाह फैलता है, वेग गिरता है और दबाव बढ़ता है। प्लेट के अपस्ट्रीम और डाउनस्ट्रीम टैपिंग में द्रव दबाव में अंतर को मापकर, व्यापक शोध से स्थापित गुणांक का उपयोग करके बर्नौली के समीकरण से प्रवाह दर प्राप्त की जा सकती है।

छिद्र वाल्व प्लेटों का उपयोग आमतौर पर पाइपों में प्रवाह दर को मापने के लिए किया जाता है, जब द्रव एकल-चरण होता है (गैसों और तरल पदार्थ, या तरल पदार्थ और ठोस पदार्थों का मिश्रण होने के बजाय) और अच्छी तरह से मिश्रित होता है, तो प्रवाह स्पंदित होने के बजाय निरंतर होता है , द्रव पूरे पाइप पर कब्जा कर लेता है (गाद या फंसी गैस को छोड़कर), प्रवाह प्रोफ़ाइल समान और अच्छी तरह से विकसित होती है और द्रव और प्रवाह दर कुछ अन्य शर्तों को पूरा करती है। इन परिस्थितियों में और जब छिद्र वाल्व प्लेट का निर्माण और उचित मानकों के अनुसार स्थापित किया जाता है, तो पर्याप्त शोध के आधार पर और उद्योग, राष्ट्रीय और अंतरराष्ट्रीय मानकों में प्रकाशित सूत्रों का उपयोग करके प्रवाह दर आसानी से निर्धारित की जा सकती है। एक छिद्र वाल्व प्लेट को कैलिब्रेटेड छिद्र कहा जाता है यदि इसे उचित द्रव प्रवाह और एक ट्रेस करने योग्य प्रवाह माप उपकरण के साथ कैलिब्रेट किया गया हो।